マイクロレーザーステーション APU1 製品情報

マイクロレーザーステーション APU1 詳細

概 要 FPD(ELパネル)向けリペアステーション レーザー・マーキング対応 最小0.3μｍ以下の微小スポットレーザー照射が可能 特 徴 Windows画面上で簡単に操作が可能。 高精度：ＸＹステージ分解能０.１μｍ・Ｚステージ分解能０.１μｍ ＸＹＺスケール(オプション)を搭載すれば、3次元測定も可能。 (シール高さ測定機、微小線幅測定機、粒子計測にも対応可能) ステージコントロールにより、任意の文字等のマーキングにも対応可能。 ダイレーザーを採用、目的によりレーザーの波長を変える事が出来ます。 (選択可能範囲：３６５nm～９００nm) ガラス補正レンズによりＥＬパネル、液晶パネルの外観検査装置としても対応可能。 応用分野 ＦＤＰの回路・微小欠陥等のリペア フォトマスク・半導体デバイスの加工／回路切断／リペア 自由文字マーキング マーキング（ＳＥＭ観察、ＥＢ加工の前準備） パッシベーション／コンタミネーションの除去 マイクロマシンの加工 仕 様 顕微鏡部 (電動レボルバ・反射／透過照明仕様) CF IC EPI E Plan 5×、10× CF IC LCD Plan CR 20×、50×、100× (ガラス補正レンズ：0.6～1.2ｍｍ補正範囲) カラーCCDカメラ ／１５インチ液晶モニタ 三眼鏡筒 正立像(視野数２０) 光量分割比(双眼：直筒)１００：０／０：１００ ステージ部 ステージ 有効ストローク 分解能 位置決め精度 繰り返し精度 XYステージ ２００ｍｍ ０．１μm ２０μm ±２μｍ Z（フォーカス部） ６０ｍｍ ０．１μm ６μｍ ±1μｍ レーザ部 レーザ本体部：窒化ガスレーザ 337.1nm パルスエネルギー　＞300μj 対物レンズからのレーザ照射　色素：Coumarin440nm　レーザクラス１以下 架台部 架台上面にアルミ定盤を取付、ＸＹＺステージは防振ゴムにて設置 操作 Windows画面上のマウスにより簡単に操作が可能。 ステージ速度、フォーカス調整等の設定変更が簡単に出来ます。(ユーザー仕様に設定が可能) 用力 電源　１００V１５００VA（MAX） 外形寸法　約W７５０×D８７５×H１３７０mm／装置重量　約２５０Kg

▲クリックで拡大

▲クリックで拡大	▲クリックで拡大
▲クリックで拡大

▲このページのトップへ

※ 上記仕様以外の大型基板対応ステージ、高精度ステージや特注仕様も対応致します。
※ 本製品について、仕様・外観を予告無く変更する場合があります。予めご了承下さい。